发明名称 真空镀膜工艺
摘要 本发明公开一种真空镀膜工艺,包括产品的清洗、分别采用电子束蒸镀、溅射镀或热气流蒸镀的方式在清洗后的产品表面形成SiO2膜层、采用电子束蒸镀、溅射镀或热气流蒸镀的方式在清洗后的产品表面形成防污膜层以及成品的包装等步骤,通过在产品为表面设置一层SiO2膜层以及一层防污膜层,镀膜的方式包括电子束蒸镀方式、溅射镀方式以及热气流蒸镀方式,从而达到了油水物质均不会直接接触到产品表面,从而使得产品表面不会发生腐蚀或者划伤的可能。
申请公布号 CN105463374A 申请公布日期 2016.04.06
申请号 CN201510878685.4 申请日期 2015.12.04
申请人 东莞市金世尊电子科技有限公司 发明人 翟文喜
分类号 C23C14/10(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I;C23C14/30(2006.01)I;C23C14/24(2006.01)I;C23C14/34(2006.01)I 主分类号 C23C14/10(2006.01)I
代理机构 东莞市神州众达专利商标事务所(普通合伙) 44251 代理人 皮发泉
主权项 一种真空镀膜工艺,其特征在于,包括以下步骤:S1、产品的清洗:辅助清洗结构上的清洗机械手抓取待清洗产品,并按照输送带路线将带清洗产品传送到清洗室中进行产品的表层清洗;S2、采用电子束蒸镀、溅射镀或热气流蒸镀的方式在清洗后的产品表面形成SiO2膜层;S3、采用电子束蒸镀、溅射镀或热气流蒸镀的方式在镀有SiO2膜层的产品表面形成防污膜层;S4、成品的包装:判断S3中生产出的成品是否为合格产品,合格产品进行包装,不合格产品进入回收站;其中步骤S2中,电子束蒸镀SiO2膜层的具体步骤为:将S1中清洗后的产品传送到第一电子束蒸镀室中,从电子枪中喷射出的SiO2喷涂物料以蒸发气体的形式粘合在产品表面;溅射镀SiO2膜层的具体步骤为:将S1中清洗后的产品传送到第一溅射镀室中,SiO2喷涂物料以液体形态喷射在产品表面,以产生膜层;热气流蒸镀SiO2膜层的具体步骤为:将S1中清洗后的产品传送到第一热气流蒸镀室中,蒸发源腔将SiO2喷涂物料蒸发成气体扩散到第一热气流蒸镀室内,气体自然吸附在产品表面形成膜层;其中步骤S3中,电子束蒸镀防污膜层:将S2中镀膜后的产品传送到第二电子束蒸镀室中,从电子枪中喷射出的防污药品以蒸发气体的形式粘合在产品表面;溅射镀防污膜层:将S2中镀膜后的产品传送到第二溅射镀室中,防污药品以液体形态喷射在产品表面,以产生膜层;热气流蒸镀防污膜层:将S2中镀膜后的产品传送到第二热气流蒸镀室中,蒸发源腔将防污药品蒸发成气体扩散到第二热气流蒸镀室内,气体自然吸附在产品表面形成膜层。
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