| 摘要 |
본 발명은 도포 결함 및 패턴 결함 등의 결함의 발생을 감소시킬 수 있는 리소그래피용 레지스트 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다. 그 해결 수단으로서는, 리소그래피용 레지스트 조성물의 제조 방법으로서, 적어도, 리소그래피용 레지스트 조성물을 필터로 여과하는 공정을 포함하고, 상기 여과 공정에서 콜로이달 졸을 상기 필터 상류로부터 통과시켜 필터에 콜로이드 입자를 흡착시킨 후, 상기 필터에 상기 리소그래피용 레지스트 조성물을 통과시킴으로써, 상기 리소그래피용 레지스트 조성물 중의 미소 입자를 제거하는 것을 특징으로 하는 리소그래피용 레지스트 조성물의 제조 방법이다. |
