发明名称 |
一种阵列基板及其制作方法、显示装置 |
摘要 |
本发明公开了一种阵列基板及其制作方法、显示装置,其中,所涉及的阵列基板中包括:衬底基板,位于衬底基板之上的信号线,位于衬底基板与信号线之间的消光层,该消光层用于在阵列基板位于出光侧时消减外界环境光,其中,信号线在衬底基板所在平面内的正投影与消光层在衬底基板所在平面内的正投影重合。从而,在保证不影响透过率的情况下,利用消光层消减外界环境光的方式,减少进入信号线的外界环境光,减少信号线反射出的光线,提升了显示对比度,改善了显示质量。 |
申请公布号 |
CN105470268A |
申请公布日期 |
2016.04.06 |
申请号 |
CN201610015755.8 |
申请日期 |
2016.01.11 |
申请人 |
京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
发明人 |
王守坤;郭会斌;冯玉春;李梁梁 |
分类号 |
H01L27/12(2006.01)I;H01L21/77(2006.01)I |
主分类号 |
H01L27/12(2006.01)I |
代理机构 |
北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 |
代理人 |
黄志华 |
主权项 |
一种阵列基板,包括:衬底基板,位于所述衬底基板之上的信号线,其特征在于,还包括:位于所述衬底基板与所述信号线之间的消光层,所述消光层用于在所述阵列基板位于出光侧时消减进入所述信号线的外界环境光,其中,所述信号线在所述衬底基板所在平面内的正投影与所述消光层在所述衬底基板所在平面内的正投影重合。 |
地址 |
100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 |