发明名称 一种高能多元素离子注入机
摘要 本发明公开了一种高能多元素离子注入机,包括离子源、质量分析器、射频加速系统和靶室,质量分析器将离子源产生的离子束筛选后传输给射频加速系统进行加速,经射频加速系统加速到高能量状态的离子束传输至靶室内完成离子束注入,靶室内设有靶台运动机构,靶台运动机构兼具水平方向和竖直方向的两个运动维度,在靶室内以二维扫描方式完成离子束注入。本发明具有结构简单紧凑、离子注入均匀性好、离子注入能量污染小的优点。
申请公布号 CN105470086A 申请公布日期 2016.04.06
申请号 CN201510912897.X 申请日期 2015.12.11
申请人 中国电子科技集团公司第四十八研究所 发明人 孙雪平;袁卫华;张赛;彭立波;易文杰
分类号 H01J37/317(2006.01)I;H01J37/05(2006.01)I;H01J37/02(2006.01)I 主分类号 H01J37/317(2006.01)I
代理机构 湖南兆弘专利事务所 43008 代理人 周长清
主权项 一种高能多元素离子注入机,包括离子源(1)、质量分析器(2)、射频加速系统(3)和靶室(4),所述质量分析器(2)将离子源(1)产生的离子束筛选后传输给射频加速系统(3)进行加速,经所述射频加速系统(3)加速到高能量状态的离子束传输至靶室(4)内完成离子束注入,其特征在于,所述靶室(4)内设有靶台运动机构(41),所述靶台运动机构(41)兼具水平方向和竖直方向的两个运动维度,在靶室(4)内以二维扫描方式完成离子束注入。
地址 410111 湖南省长沙市天心区新开铺路1025号