紫外光均匀分布的流体处理的系统和方法

摘要

在各个实施例中，通过使流体流动通过流通室来处理流体，所述流通室具有(i)流体入口、(ii)流体出口、(iii)布置在流体入口和流体出口之间的处理区域，以及(iv)使紫外(UV)光发生反射的内表面，该内表面使得一个或多个UV光源发射的UV光发生漫反射以大致均匀地照射处理区域，从而处理流体。

主权项

一种流体处理系统，包括：流通室，在其内部包含流动的流体，所述流通室具有(i)流体入口、(ii)流体出口、(iii)布置在所述流体入口和流体出口之间并且流体地耦合至所述流体入口和流体出口的处理区域，以及(iv)使得紫外(UV)光发生漫反射的内表面；布置在所述流通室的第一端的第一端盖，所述第一端盖具有使得UV光发生漫反射的侧壁；布置在与所述流通室的所述第一端相对的所述流通室的第二端的第二端盖，所述第二端盖具有使得UV光发生漫反射的侧壁；布置在所述流通室和所述第一端盖之间的第一窗口，所述第一窗口(i)大致防止流体流入所述第一端盖并且(ii)使得UV光大致透过；布置在所述流通室和所述第二端盖之间的第二窗口，所述第二窗口(i)大致防止流体流入所述第二端盖并且(ii)使得UV光大致透过；一个或多个第一UV光源，其被定位为将UV光射入所述第一端盖，所述第一端盖的侧壁被配置为使得UV光的至少一部分漫反射进入所述处理区域；以及一个或多个第二UV光源，其被定位为将UV光射入所述第二端盖，所述第二端盖的侧壁被配置为使得UV光的至少一部分漫反射进入所述处理区域。