发明名称 LITHOGRAPHIC CLUSTER SYSTEM METHOD FOR CALIBRATING A POSITIONING DEVICE OF A LITHOGRAPHIC APPARATUS
摘要 리소그래피 장치의 기판 위치 설정기를 교정하는 방법이 제시되며, 이러한 방법은: 리소그래피 장치를 이용하여 기준 층을 갖는 기판의 표면 상의 노광된 층 상에 패턴을 노광하는 단계로서, 패턴은 기판 위치 설정기에 의한 기판의 이동에 대응하는, 패턴 노광 단계; 기판 상의 복수의 위치 상에서 기준 층과 노광된 층 사이의 오버레이 데이터를 측정하는 단계; 이산 코사인 변환에 의해 오버레이 데이터를 공간 영역으로부터 주파수 영역으로 변환하는 단계; 오버레이 데이터의 서브세트를 선택함으로써 주파수 영역에서 오버레이 데이터를 수정하는 단계; 수정된 오버레이 데이터를 역 이산 코사인 변환에 의해 주파수 영역으로부터 다시 공간 영역으로 변환하는 단계; 및 공간 영역의 수정된 오버레이 데이터를 이용하여 기판 위치 설정기를 교정하는 단계를 포함한다.
申请公布号 KR101609652(B1) 申请公布日期 2016.04.06
申请号 KR20157002941 申请日期 2013.06.14
申请人 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. 发明人 다니린 알렉산더 알렉산드로비치;애리자발라가 우리아르트 일레얀드로 자이버;멘치트치코브 보리스;패디 알렉산더 비크토로비치
分类号 G03F7/20;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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