发明名称 改进等离子均匀性和效率的电感耦合等离子装置
摘要 本发明提供一种电感耦合等离子反应器,其中,包括封闭壳体,其中所述封闭壳体的至少部分顶板由绝缘材料制成的绝缘材料窗。基片支撑装置,设置于所述封闭壳体中的所述绝缘材料窗的下方。射频功率发射装置位于所述绝缘材料窗上方,以发射射频功率穿过所述绝缘材料窗进入到所述封闭壳体中。多个气体注入器均匀分布在所述基片支撑装置上方,以提供处理气体到所述封闭壳体。环形挡板,设置于所述封闭壳体内以及所述基片支撑装置的上方和所述多个气体注入器的下方,以引导所述处理气体的流动。
申请公布号 CN102355792B 申请公布日期 2016.04.06
申请号 CN201110319250.8 申请日期 2011.10.19
申请人 中微半导体设备(上海)有限公司 发明人 石刚;许颂临;倪图强
分类号 H05H1/46(2006.01)I 主分类号 H05H1/46(2006.01)I
代理机构 上海智信专利代理有限公司 31002 代理人 王洁
主权项 一种电感耦合等离子装置,其中,包括:封闭壳体,其包括顶板,所述顶板构成绝缘材料窗;基片支撑装置,其设置于所述封闭壳体内的所述绝缘材料窗下方;射频功率发射装置,其设置于所述绝缘材料窗上方,以发射射频能量到所述封闭壳体内;气体注入器,其用于向所述封闭壳体内供应处理气体;挡板,其设置于所述封闭壳侧壁以及所述基片支撑装置上方和所述气体注入器下方,以限制所述处理气体的流动,所述挡板是带有中间开口的圆盘形;所述处理气体在所述挡板与所述绝缘材料窗之间形成的空间内解离形成等离子体;所述挡板引导所述等离子体从所述空间内扩散到所述中间开口,经所述中间开口向下扩散到所述基片支撑装置上方,对所述支撑装置支撑的基片进行等离子体处理。
地址 201201 上海市浦东新区金桥出口加工区(南区)泰华路188号
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