发明名称 对准标记及掩膜版
摘要 本发明涉及一种对准标记和掩膜版,其中对准标记包括基准标记单元和对准标记单元,基准标记单元包括角度基准标记单元、纵向基准标记单元和横向基准标记单元,该对准标记单元包括角度对准标记单元、纵向对准标记单元和横向对准标记单元,其中,该角度基准标记单元为形状,该角度对准标记单元包括4个角度对准标记元素,该4个角度对准标记元素分别与角度基准标记的4个直角接近配合,用以在旋转角度参量上精确对准。本发明适用于微电子流程中任意图形的套刻工艺中,可以将套刻的掩膜版与待加工的样品精确对准,具有广泛的实用意义。
申请公布号 CN105467747A 申请公布日期 2016.04.06
申请号 CN201610012639.0 申请日期 2016.01.09
申请人 北京工业大学 发明人 李冲;丰亚洁;何艳;吕本顺;郭霞
分类号 G03F1/42(2012.01)I 主分类号 G03F1/42(2012.01)I
代理机构 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 代理人 刘萍
主权项 一种对准标记,包括基准标记单元和对准标记单元,其特征在于,所述基准标记单元包括角度基准标记单元、纵向基准标记单元和横向基准标记单元,所述对准标记单元包括角度对准标记单元、纵向对准标记单元和横向对准标记单元,其中,所述角度基准标记单元为十字形状,所述角度对准标记单元包括4个角度对准标记元素,所述4个角度对准标记元素分别与所述角度基准标记的4个直角配合。
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