| 发明名称 | 基板处理装置及方法 | ||
| 摘要 | 在根据本发明构思的示例性实施例的装置和方法中，可使用两种或多种处理溶液处理基板。基板处理装置可包括：处理容器，所述处理容器提供有处理空间；基板支撑单元，所述基板支撑单元提供在所述处理容器中以支撑基板；和溶液供给单元，所述溶液供给单元将处理溶液提供至由所述基板支撑单元支撑的基板上。溶液供给单元可包括：刻蚀溶液供给喷嘴，所述刻蚀溶液供给喷嘴将刻蚀溶液提供至由所述基板支撑单元支撑的基板的边缘区域；和防刻蚀溶液(EPS)供给喷嘴，所述防刻蚀溶液供给喷嘴将防刻蚀溶液提供至由所述基板支撑单元支撑的基板的区域。因此，可以防止基板的区域变干。 | ||
| 申请公布号 | CN105470123A | 申请公布日期 | 2016.04.06 |
| 申请号 | CN201510642420.4 | 申请日期 | 2015.09.30 |
| 申请人 | 细美事有限公司 | 发明人 | 李瑟;郑煐宪;崔从洙 |
| 分类号 | H01L21/306(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/306(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人 | 申健 |
| 主权项 | 一种基板处理装置，其特征在于，包括：处理容器，所述处理容器提供有处理空间；基板支撑单元，所述基板支撑单元提供在所述处理容器中以支撑基板；和溶液供给单元，所述溶液供给单元将处理溶液提供至由所述基板支撑单元支撑的基板上；其中，所述溶液供给单元包括：刻蚀溶液供给喷嘴，所述刻蚀溶液供给喷嘴将刻蚀溶液提供至由所述基板支撑单元支撑的基板的边缘区域；和防刻蚀溶液EPS供给喷嘴，所述防刻蚀溶液供给喷嘴将防刻蚀溶液提供至由所述基板支撑单元支撑的基板的中央区域。 | ||
| 地址 | 韩国忠淸南道天安市 | ||