发明名称 |
一种取向膜的制备方法及其制备装置 |
摘要 |
本发明实施例公开了一种取向膜的制备方法及其制备装置,涉及液晶显示领域,能够使得取向膜各部分对液晶分子的锚定能力一致,提高液晶面板的对比度。该取向膜的制备方法,包括:在基板上形成取向材料层,所述取向材料层具有待处理区域,对所述待处理区域进行光照处理,以减小所述待处理区域的预倾角。 |
申请公布号 |
CN103412440B |
申请公布日期 |
2016.04.06 |
申请号 |
CN201310322751.0 |
申请日期 |
2013.07.29 |
申请人 |
北京京东方光电科技有限公司 |
发明人 |
李建;宋省勳;李鸿鹏 |
分类号 |
G02F1/1337(2006.01)I |
主分类号 |
G02F1/1337(2006.01)I |
代理机构 |
北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 |
代理人 |
申健 |
主权项 |
一种取向膜的制备方法,其特征在于,包括:在基板上形成取向材料层,所述取向材料层具有待处理区域,对所述待处理区域进行光照处理,以减小所述待处理区域的预倾角;上述步骤具体包括:在所述基板上涂覆取向材料层,利用摩擦辊摩擦所述取向材料层;检测经过摩擦的取向材料层各个区域的预倾角,在经过所述摩擦辊的摩擦后,所述取向材料层上得到充分摩擦的区域,其预倾角等于预设值,未得到充分摩擦的区域,其预倾角大于预设值,所述预倾角大于预设值的区域为待处理区域;对所述待处理区域进行光照处理,以减小所述待处理区域的预倾角。 |
地址 |
100176 北京市大兴区北京市经济技术开发区西环中路8号 |