METHOD OF LITHOGRAPHY WITH COMBINED OPTIMIZATION OF THE ENERGY RADIATED AND OF THE GEOMETRY APPLICABLE TO COMPLEX SHAPES

摘要

전자 방사선에 의한 패턴의 묘화에 관한 데이터를 생성하는 방법은 단일 외부 엔벌로프를 가진 작업 패턴을 형성하는 형성될 패턴의 제공 (S1) 을 초기에 포함한다. 작업 패턴은 각각이 단일 외부 엔벌로프를 포함하는 기본 윤곽들의 세트로 분해된다 (S3). 아이솔레이션 조건들의 세트는 각각의 기본 윤곽을 모델링하도록 정의된다 (S4). 조사된 시뮬레이션 패턴 (S5) 은 기본 윤곽들의 세트들과 연관된 아이솔레이션 조건들의 세트들로부터 계산된다. 시뮬레이션 패턴은 형성될 패턴과 비교된다 (S6). 시뮬레이션 패턴이 형성될 패턴 (1) 을 표현하지 않는다면, 시프트 벡터들이 계산된다. 시프트 벡터들은 2 개의 패턴들 간에 존재하는 상이한 간격들을 표현한다. 형성될 패턴의 외부 엔벌로프는 시프트 벡터들로부터 결정된 변위 벡터들로부터 변형된다. 새로운 반복이 수행된다.