发明名称 | 一种横向沟槽结构的同位素电池 | ||
摘要 | 本实用新型公开了一种横向沟槽结构的同位素电池,目的在于:提高能量转换效率和封装密度,有利于集成,实用性强,设计新颖合理,方便实现,本实用新型采用的技术方案为:包括由SiC基片构成的衬底,衬底上部设置有N型SiC外延层,所述N型SiC外延层上设有若干个台阶,相邻台阶之间设有沟槽,所述若干个台阶的顶部中间位置设置有N型SiC欧姆接触掺杂区,N型SiC欧姆接触掺杂区上端设置有N型欧姆接触电极,所述N型欧姆接触电极两侧的台阶顶部位置上设置有α放射源;所述相邻台阶之间的沟槽底部设置有P型SiC欧姆接触掺杂区,P型SiC欧姆接触掺杂区的上部设置有P型欧姆接触电极。 | ||
申请公布号 | CN205140532U | 申请公布日期 | 2016.04.06 |
申请号 | CN201520912516.3 | 申请日期 | 2015.11.16 |
申请人 | 长安大学 | 发明人 | 谷文萍;高攀;张赞;张林 |
分类号 | G21H1/06(2006.01)I | 主分类号 | G21H1/06(2006.01)I |
代理机构 | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人 | 徐文权 |
主权项 | 一种横向沟槽结构的同位素电池,其特征在于,包括由SiC基片构成的衬底(1),衬底(1)上部设置有N型SiC外延层(2),所述N型SiC外延层(2)上设有若干个台阶,相邻台阶之间设有沟槽,所述若干个台阶的顶部中间位置注入有N型SiC欧姆接触掺杂区(3),N型SiC欧姆接触掺杂区(3)上端设置有N型欧姆接触电极(5),所述N型欧姆接触电极(5)两侧的台阶顶部位置上设置有α放射源(7);所述相邻台阶之间的沟槽底部设置有P型SiC欧姆接触掺杂区(4),P型SiC欧姆接触掺杂区(4)的上部设置有P型欧姆接触电极(6)。 | ||
地址 | 710064 陕西省西安市碑林区南二环中段33号 |