发明名称 一种过孔及其制作方法、阵列基板
摘要 本发明实施例提供一种过孔及其制作方法、阵列基板,涉及显示技术领域,能够改善过孔技术中接触电阻偏大及断路的问题。该过孔包括在基板上依次形成有第一电极和金属层;金属层与第一电极电连接。在金属层的表面依次形成有绝缘层和第二电极,在绝缘层的表面设置有过孔,第二电极通过该过孔与金属层电连接。
申请公布号 CN103715135B 申请公布日期 2016.04.06
申请号 CN201310689054.9 申请日期 2013.12.16
申请人 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 发明人 封宾
分类号 H01L21/768(2006.01)I;H01L23/538(2006.01)I;H01L27/12(2006.01)I 主分类号 H01L21/768(2006.01)I
代理机构 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人 申健
主权项 一种过孔的制作方法,其特征在于,包括:在基板上通过构图工艺形成用于减小过孔深度的第一电极的图案;在形成有所述第一电极图案的基板表面形成有金属层;所述金属层与所述第一电极的图案电连接;在形成有所述金属层的基板表面形成绝缘层;在所述绝缘层的表面通过构图工艺形成过孔;在形成有所述过孔的基板表面通过构图工艺形成第二电极的图案;其中,所述第二电极通过所述过孔与所述金属层电连接。
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