发明名称 |
一种过孔及其制作方法、阵列基板 |
摘要 |
本发明实施例提供一种过孔及其制作方法、阵列基板,涉及显示技术领域,能够改善过孔技术中接触电阻偏大及断路的问题。该过孔包括在基板上依次形成有第一电极和金属层;金属层与第一电极电连接。在金属层的表面依次形成有绝缘层和第二电极,在绝缘层的表面设置有过孔,第二电极通过该过孔与金属层电连接。 |
申请公布号 |
CN103715135B |
申请公布日期 |
2016.04.06 |
申请号 |
CN201310689054.9 |
申请日期 |
2013.12.16 |
申请人 |
京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
发明人 |
封宾 |
分类号 |
H01L21/768(2006.01)I;H01L23/538(2006.01)I;H01L27/12(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/768(2006.01)I |
代理机构 |
北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 |
代理人 |
申健 |
主权项 |
一种过孔的制作方法,其特征在于,包括:在基板上通过构图工艺形成用于减小过孔深度的第一电极的图案;在形成有所述第一电极图案的基板表面形成有金属层;所述金属层与所述第一电极的图案电连接;在形成有所述金属层的基板表面形成绝缘层;在所述绝缘层的表面通过构图工艺形成过孔;在形成有所述过孔的基板表面通过构图工艺形成第二电极的图案;其中,所述第二电极通过所述过孔与所述金属层电连接。 |
地址 |
100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 |