发明名称 曝光装置
摘要 提供一种曝光装置,即便是设于工件的背面的对准标记,也能可靠地使其与掩模对准标记对位,并能高精度地将掩模图案曝光于工件上。本发明的曝光装置包括:掩模(13),该掩模(13)设有掩模对准标记(131);掩模保持件(12),该掩模保持件(12)对掩模(13)进行保持;平台(15),该平台(15)对工件(14)进行装设并加以固定,该工件(14)在面(145)上具有工件对准标记(141),该面(145)是设有掩模对准标记(131)的面(135)所面对的面的相反一侧的面。平台(15)包括光学零件,当对装设的工件(14)的工件对准标记(141)进行摄像时,该光学零件使光在内部奇数次反射,以在比工件(14)的尺寸靠外侧的位置形成像,平台驱动装置根据通过该光学零件形成的像将掩模对准标记(131)和工件对准标记(141)对位。
申请公布号 CN105474104A 申请公布日期 2016.04.06
申请号 CN201480046673.9 申请日期 2014.08.18
申请人 株式会社村田制作所 发明人 渡边智也;松冈尚弥;山根茂树
分类号 G03F9/00(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I;H05K3/00(2006.01)I 主分类号 G03F9/00(2006.01)I
代理机构 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人 曹振华;胡曼
主权项 一种曝光装置,其特征在于,包括:掩模,该掩模设有掩模对准标记;掩模保持件,该掩模保持件对所述掩模进行保持;平台,该平台对工件进行装设并加以固定,该工件在设有所述掩模对准标记的面所面对的面的相反一侧的面上具有工件对准标记;平台驱动装置,该平台驱动装置使所述平台移动,以对所述掩模与所述工件的相对位置进行调节;以及摄像装置,该摄像装置对所述掩模对准标记及所述工件对准标记进行摄像,所述平台包括光学零件,当对装设的所述工件的所述工件对准标记进行摄像时,该光学零件使光在内部奇数次反射,以在比所述工件的尺寸靠外侧的位置形成像,所述平台驱动装置根据通过该光学零件形成的像,将所述掩模对准标记和工件对准标记对位。
地址 日本京都府