PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD OF MANUFACTURING PATTERNIZED LAYER BY USING THE SAME

摘要

본 발명은 하기 화학식(1)으로 표시되는 말레이미드계 페놀 수지 100 중량부, 및 폴리아미드계 수지 100 내지 500 중량부를 포함하는 감광성 수지 조성물을 제공한다. 하기 화학식에서 R은 수소원자, CH, CHOH 또는 CHOCH이며, n은 1 내지 1000의 정수이다.(1)