| 摘要 |
投影レンズの物体平面（ＯＳ）に配置されたパターンをその像平面に動作波長λ＜２６０ｎｍを有する電磁放射線を用いて結像するための投影レンズは、物体平面（ＯＳ）と像平面の間の投影ビーム経路に配置された光学面を有する複数の光学要素を有する。物体平面から像平面に通過する投影放射線の波面に動的に影響を及ぼすための波面操作系が設けられる。波面操作系は、投影ビーム経路に配置された第１のマニピュレータ面（ＭＳ１）と、第１のマニピュレータ面の面形状及び／又は屈折率分布を可逆に変更するための第１の作動デバイス（ＤＲ１）とを有する第１のマニピュレータを有する。第１のマニピュレータは、最大直径ＤFPを有する第１のマニピュレータ面の光学的使用領域にわたって特性周期ＰCHAR＝ＤFP／［（ＮMAX＋ＮMIN）／２］に従って投影放射線の光路長変化の数値ＮMAX＞１の最大点と数値ＮMIN＞１の最小点とを生成することができるように構成される。第１のマニピュレータ面は、第１のマニピュレータ面での視野平面の視野点から射出する各ビームが、部分開口直径ＳＡＤを有する部分開口を照明し、かつ第１のマニピュレータ面において条件ＳＡＤ／ＤFP＜０．２が成り立つように、視野平面に対して光学近接にある投影レンズの最も近い視野平面（ＯＳ）から有限の第１の距離（Ｄ１）に配置される。【選択図】図２ |
