| 发明名称 |
制造含镍薄膜的方法 |
| 摘要 |
供前驱物和使用前驱物来沉积实质由镍组成的薄膜的方法。某些方法包含提供基板表面；使基板表面接触包含前驱物的蒸汽，前驱物具有以化学式(I)表示的结构：
其中R1系第三丁基，R2个别为任一C1-C3烷基；及使基板接触还原气体，以于基板表面上提供实质由镍组成的薄膜。
|
| 申请公布号 |
TWI527823 |
申请公布日期 |
2016.04.01 |
| 申请号 |
TW102125601 |
申请日期 |
2013.07.17 |
| 申请人 |
应用材料股份有限公司 |
发明人 |
柯奈普大卫;汤普森大卫 |
| 分类号 |
C07F17/00(2006.01);C23C16/448(2006.01) |
主分类号 |
C07F17/00(2006.01) |
| 代理机构 |
|
代理人 |
蔡坤财;李世章 |
| 主权项 |
一种沉积实质由镍组成的一薄膜的方法，该方法包含以下步骤：提供一基板表面；使该基板表面接触一蒸汽，该蒸汽包含具一下列结构的一前驱物：
其中R1系第三丁基，R2个别为任一C1-C3烷基；以及使该基板接触一还原气体，以于该基板表面上提供实质由镍组成的一薄膜。
|
| 地址 |
美国 |
