发明名称 半导体装置
摘要 明之实施形态提供一种抑制凸块电极之间之连接不良之产生之半导体装置。
申请公布号 TW201613050 申请公布日期 2016.04.01
申请号 TW104106903 申请日期 2015.03.04
申请人 东芝股份有限公司 发明人 筑山慧至;向田秀子;栗田洋一郎
分类号 H01L23/48(2006.01);H01L23/50(2006.01) 主分类号 H01L23/48(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文
主权项 一种半导体装置,其包括:第1半导体晶片,其包括:第1晶片本体,其具有第1表面与第2表面;第1电极,其设置于上述第1晶片本体之上述第1表面;第1无机保护膜,其使上述第1电极露出,且覆盖上述第1晶片本体之上述第1表面;及第1凸块电极,其设置于上述第1电极上;第2半导体晶片,其包括:第2晶片本体,其具有第1表面与第2表面;第2电极,其设置于上述第2晶片本体之上述第1表面;第2无机保护膜,其使上述第2电极露出,且覆盖上述第2晶片本体之上述第1表面;有机保护膜,其使上述第2电极露出,且覆盖上述第2无机保护膜;再配线层,其设置于上述有机保护膜上,且与上述第2电极电性连接;第2凸块电极,其与上述再配线层电性连接;第1贯通电极,其以贯通上述第2晶片本体之方式设置,且与上述第2电极电性连接;及第3凸块电极,其设置于上述第2晶片本体之上述第2表面侧,且与上述第1贯通电极电性连接;且该第2半导体晶片使上述第3凸块电极连接于上述第1凸块电极,且该第2半导体晶片积层于上述第1半导体晶片上;第3半导体晶片,其包括:第3晶片本体,其具有第1表面与第2表面;第3电极,其设置于上述第3晶片本体之上述第1表面;第3无机保护膜,其使上述第3电极露出,且覆盖上述第3晶片本体之上述第1表面;及第4凸块电极,其设置于上述第3电极上;且该第3半导体晶片使上述第4凸块电极连接于上述第2凸块电极,且该第3半导体晶片积层于上述第2半导体晶片上;第1树脂层,其设置于上述第1半导体晶片与上述第2半导体晶片之间,且与上述第1无机保护膜相接;及 第2树脂层,其设置于上述第2半导体晶片与上述第3半导体晶片之间,且与上述有机保护膜及上述第3无机保护膜相接。
地址 日本