METHOD FOR MEASURING OVERLAY MEASURING DEVICE SCANNING ELECTRON MICROSCOPE AND GUI

摘要

복수회의 노광 공정에 의해 회로 패턴이 형성되어 있는 반도체 디바이스의 오버레이를 계측하는 방법으로서, 상기 반도체 디바이스의 복수의 영역의 화상을 촬상하는 촬상 스텝과, 상기 촬상 스텝에 의해 촬상된 복수의 촬상 화상으로부터 기준 화상을 설정하는 기준 화상 설정 스텝과, 상기 기준 화상 설정 스텝에 의해 설정한 기준 화상과 상기 촬상 스텝에 의해 촬상된 상기 복수의 촬상 화상의 차이를 정량화하는 차이 정량화 스텝과, 상기 차이 정량화 스텝에 의해 정량화한 차이를 기초로 오버레이를 산출하는 오버레이 산출 스텝을 구비하는 것을 특징으로 한 오버레이 계측 방법이다.