| 发明名称 |
光阻组成物 |
| 摘要 |
明提供一种光阻组成物，其包含：树脂，该树脂包含衍生自具有酸不稳定基之化合物的结构单元，且该树脂不溶于或难溶于硷性水溶液，但在藉由酸作用后变得可溶于硷性水溶液；酸产生剂；以及式(I’)所示之化合物： |
| 申请公布号 |
TWI528110 |
申请公布日期 |
2016.04.01 |
| 申请号 |
TW099130019 |
申请日期 |
2010.09.06 |
| 申请人 |
住友化学股份有限公司 |
发明人 |
釜渊明;山下裕子 |
| 分类号 |
G03F7/039(2006.01);C08K5/19(2006.01);C08F212/14(2006.01);G03F7/16(2006.01);H01L21/027(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/039(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
洪武雄;陈昭诚 |
| 主权项 |
一种光阻组成物，系包含：树脂，该树脂包含衍生自具有酸不稳定基之化合物的结构单元及衍生自式(a2-0)所示之化合物的结构单元：
其中，R8表示氢原子、卤原子、C1-C6烷基或C1-C6卤化烷基，R9于每次出现时独立为卤原子、羟基、C1-C6烷基、C1-C6烷氧基、C2-C4醯基、C2-C4醯氧基、丙烯醯基或甲基丙烯醯基，以及ma表示0至4之整数，该树脂不溶于或难溶于硷性水溶液，但藉由酸作用后变得可溶于硷性水溶液；酸产生剂；以及式(I’)所示之化合物：
其中，R51、R52、R53及R54各自独立表示C1-C8烷基，以及-OOC-A11-OH表示下式任一式所示之阴离子，
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| 地址 |
日本 |
