| 发明名称 |
强磁性材溅镀靶 |
| 摘要 |
强磁性材溅镀靶，系由Cr为20mol%以下、Pt为5mol%以上、其余为Co之组成的金属构成，其特征在于：该靶组织具有金属基材(A)、于上述(A)中之含有40～76mol%之Pt的Co-Pt合金相(B)、及与上述相(B)不同之Co或以Co为主成份之金属或合金相(C)。获得可提高漏磁通、利用磁控溅镀装置可稳定放电之强磁性材溅镀靶。 |
| 申请公布号 |
TWI527922 |
申请公布日期 |
2016.04.01 |
| 申请号 |
TW100146736 |
申请日期 |
2011.12.16 |
| 申请人 |
ＪＸ日鑛日石金属股份有限公司 |
发明人 |
荒川笃俊;池田佑希 |
| 分类号 |
C23C14/34(2006.01);C23C14/14(2006.01);C22C19/07(2006.01);G11B5/851(2006.01) |
主分类号 |
C23C14/34(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
阎启泰;林景郁 |
| 主权项 |
一种强磁性材溅镀靶，其系由Cr为20mol%以下、Pt为5mol%以上、其余为Co之组成的金属构成，其特征在于：该靶具有金属基材(A)、于该金属基材(A)中之含有40~76mol%之Pt的Co-Pt合金相(B)、及与该Co-Pt合金相(B)不同之Co或以Co为主成份的金属或合金相(C)。
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| 地址 |
日本 |
