发明名称 保护膜与其镀膜方法
摘要 保护膜与其镀膜方法。此保护膜镀膜方法系用以于基材上形成低电阻率之保护膜。在此保护膜镀膜方法中,首先进行混合步骤,以将复数种金属气体混合,其中这些金属气体之原子具有二种以上的尺寸。这些金属气体由银、镁、铝所组成,或者由银、铜、铝所组成,或者由铜、镍、铝所组成。接着,进行沉积步骤,以将混合气体沉积于基材上,而形成非晶质金属膜于基材上,其中非晶质金属膜之原子排列方式为短程有序(short-range order)。然后,进行退火步骤,以对非晶质金属膜进行退火,而形成具有均匀分布之微米晶粒的金属膜来作为上述之保护膜。
申请公布号 TWI527920 申请公布日期 2016.04.01
申请号 TW103141046 申请日期 2014.11.26
申请人 财团法人金属工业研究发展中心;黄志青 发明人 黄志青;锺育霖;邱松茂;伏和中
分类号 C23C14/16(2006.01);C23C14/58(2006.01) 主分类号 C23C14/16(2006.01)
代理机构 代理人 蔡坤财;李世章
主权项 一种保护膜,由复数种金属材料所组成,其中:该些金属材料为介稳态,且原子排列方式为短程有序(short-range order),其中该些金属材料由银、铜、铝所组成,或由铜、镍、铝所组成。
地址 高雄市楠梓区高楠公路1001号;高雄市鼓山区美术东二路432号10楼