敏辐射线性树脂组成物及光阻图型之形成方法

摘要

一种显影后具有良好之LWR，不易产生膜消减之敏辐射线性树脂组成物。提供一种含有(A)具有下述通式(1)所表示重复单位与酸解离性基之聚合物、(B)敏辐射线性酸产生剂，及(C)含有氟原子之聚合物的敏辐射线性树脂组成物(又，通式(1)中，R1表示氢原子等，R2表示单键结等。R3表示3价之有机基)。

主权项

一种敏辐射线性树脂组成物，其特征为，含有(A)具有下述通式(1)所表示重复单位，及，酸解离性基之聚合物(惟，具有交联基之聚合物除外)，与(B)敏辐射线性酸产生剂，与(C)含有氟原子之聚合物(惟，具有交联基之聚合物除外)，前述(A)聚合物之前述酸解离性基为以通式「-C(R)3」所表示之基，前述通式「-C(R)3」所表示之基中，任意2个之R相互键结，各自与键结之碳原子共同形成碳数4~20之2价之脂环式烃基或由该些所衍生之基，残留之1个之R，表示碳数1~4之直链状或分支状之烷基、碳数4~20之1价之脂环式烃基或由该些所衍生之基，前述任意2个之R相互键结，各自与键结之碳原子共同形成碳数4~20之2价之脂环式烃基为伸金刚烷基，

(通式(1)中，R1表示氢原子、低级烷基，或卤化低级烷基；R2表示单键结、碳数1~5之2价之烃基、烷二基氧基，或烷二基羰氧基；R3表示3价之有机基)。