| 发明名称 |
图案收缩方法 |
| 摘要 |
收缩方法系包含：(a)提供半导体基板，其系包含一层或多层待图案化之层；(b)提供阻剂图案于该一层或多层待图案化之层上；(c)涂覆收缩组成物于该图案上，其中，该收缩组成物系包含聚合物及有机溶剂，其中，该聚合物系包含具有氢受体之基团，该基团系有效与酸基团及/或醇基团于该阻剂图案之表面形成键，以及，其中，该组成物系不含交联剂；以及(d)自该基板冲洗掉残留之收缩组成物，留下键结至该阻剂图案之聚合物部分。亦提供图案收缩组成物，以及藉由该等方法形成之经涂覆之基板及电子装置。本发明于半导体装置之制造中尤其具有应用性，用于提供高解析度图案。
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| 申请公布号 |
TW201612979 |
申请公布日期 |
2016.04.01 |
| 申请号 |
TW104124707 |
申请日期 |
2015.07.30 |
| 申请人 |
罗门哈斯电子材料有限公司;陶氏全球科技责任有限公司 |
发明人 |
赫斯塔德 菲利普Ｄ;朴钟根;成鎭旭;朴 詹姆士 熙俊 |
| 分类号 |
H01L21/312(2006.01);H01L21/3105(2006.01);H01L21/027(2006.01);G03F7/40(2006.01);C08L53/00(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/312(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
洪武雄;陈昭诚 |
| 主权项 |
一种图案收缩方法，系包含：(a)提供半导体基板，其系包含一层或多层待图案化之层；(b)提供阻剂图案于该一层或多层待图案化之层上；(c)涂覆收缩组成物于该图案上，其中，该收缩组成物系包含：包含第一嵌段及第二嵌段之嵌段共聚物，其中，该第一嵌段系包含具有氢受体之基团，该基团系有效与酸基团及/或醇基团于该阻剂图案之表面形成键，且该第二嵌段系包含自(烷基)丙烯酸酯单体形成之单元、自乙烯基芳族单体形成之单元、含有矽之单元、或其组合；以及，有机溶剂；其中，该组成物系不含交联剂；(d)自该基板冲洗残留之收缩组成物，留下键结至该阻剂图案之聚合物的部分。
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| 地址 |
美国;美国 |
