| 发明名称 | 光学邻近修正之验证方法 | ||
| 摘要 | 光学邻近修正之验证方法。光学邻近修正之验证方法包括以下步骤。自一整合修正前布局图萃取一第一网表档案。合成一第一光学邻近修正后布局图及一第二光学邻近修正后布局图，以获得一整合修正后布局图。自整合修正后布局图萃取一第二网表档案。比对第一网表档案与第二网表档案是否相符。 | ||
| 申请公布号 | TW201612620 | 申请公布日期 | 2016.04.01 |
| 申请号 | TW103131874 | 申请日期 | 2014.09.16 |
| 申请人 | 联华电子股份有限公司 | 发明人 | 黄国勋;江照燿;陈建宏 |
| 分类号 | G03F1/36(2012.01) | 主分类号 | G03F1/36(2012.01) |
| 代理机构 | 代理人 | 祁明辉;林素华;涂绮玲 | |
| 主权项 | 一种光学邻近修正(optical proximity correction,OPC)之验证方法，包括：自一整合修正前布局图(integrated pre-OPC layout)萃取(extract)一第一网表档案(netlist file)；合成(merging)一第一光学邻近修正后布局图(post-OPC layout)及一第二光学邻近修正后布局图，以获得一整合修正后布局图(integrated post-OPC layout)；自该整合修正后布局图萃取一第二网表档案；以及比对(compare)该第一网表档案与该第二网表档案是否相符。 | ||
| 地址 | 新竹市新竹科学工业园区力行二路3号 | ||