发明名称 |
基板、膜形成基板的制造方法以及涂布装置 |
摘要 |
明的课题在于抑制产生于膜形成区域的膜厚不均。本发明的基板1形成有沿着膜形成区域2的外周的凹槽10,在凹槽10与膜形成区域2之间,包含并列有多个凹部20的凹部群20N,并且凹部群20N的各凹部20的形状形成为如下形状:使涂布于基板1上的液体相较于从膜形成区域2朝向凹槽10的方向,在从凹槽10朝向膜形成区域2的方向上更难流动。 |
申请公布号 |
TW201612603 |
申请公布日期 |
2016.04.01 |
申请号 |
TW104131672 |
申请日期 |
2015.09.25 |
申请人 |
芝浦机械电子装置股份有限公司 |
发明人 |
西中胜喜;梶原慎二 |
分类号 |
G02F1/1337(2006.01);G02F1/1339(2006.01) |
主分类号 |
G02F1/1337(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
叶璟宗;郑婷文;詹富闵 |
主权项 |
一种基板,形成有沿着膜形成区域的外周的凹槽,所述基板的特征在于: 在所述凹槽与所述膜形成区域之间,包含并列有多个凹部的凹部群,并且 所述凹部群的各凹部的形状形成为如下形状:使涂布于所述基板上的液体相较于从所述膜形成区域朝向所述凹槽的方向,在从所述凹槽朝向所述膜形成区域的方向上更难流动。 |
地址 |
日本 |