发明名称 |
除胶渣处理装置及除胶渣处理方法 |
摘要 |
可高处理效率且确实地进行除胶渣处理的除胶渣处理装置及除胶渣处理方法。
于藉由对配置于处理室之处理空间内的被处理物,从藉由处理空间与具有紫外线透射性的窗构件对内部空间进行区划的光照射室所收容之紫外线光源,透过窗构件而照射真空紫外线,来去除该被处理物之胶渣的除胶渣处理方法中,将使包含藉由照射真空紫外线所活性化之活性种源的处理用气体含有水分者,供给至处理空间内。除胶渣处理装置,系具备具有使藉由来自紫外线光源的真空紫外线所活性化之活性种源的处理用气体包含水分之加湿机构的处理用气体供给手段。
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申请公布号 |
TW201613433 |
申请公布日期 |
2016.04.01 |
申请号 |
TW104114284 |
申请日期 |
2015.05.05 |
申请人 |
牛尾电机股份有限公司 |
发明人 |
堀部大辉;羽生智行 |
分类号 |
H05K3/00(2006.01);H05K3/46(2006.01) |
主分类号 |
H05K3/00(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
林志刚 |
主权项 |
一种除胶渣处理装置,其特征为:具备:紫外线光源,系放射真空紫外线;光照射室,系收容该紫外线光源;处理室,系具有配置被处理物的处理空间;紫外线透射性的窗构件,系对该光照射室的内部空间与该处理室的处理空间进行区划;及处理用气体供给手段,系将处理用气体供给至前述处理空间内;前述处理用气体供给手段,系具备使包含藉由来自前述紫外线光源的真空紫外线而活性化之活性种源的处理用气体含有水分的加湿机构,并将藉由该加湿机构所加湿之处理用气体供给至前述处理空间内。
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地址 |
日本 |