| 发明名称 |
Ｔｉ－Ａｌ合金溅镀靶 |
| 摘要 |
Ti-Al合金溅镀靶，系含有39.6~80.0 at%之Al，剩余部份由Ti及不可避免之杂质构成之烧结体靶，其特征在于该靶组织中Ti3Al结晶相之面积比例为40%以下。本案之课题在于提供一种于进行溅镀时能够防止异常放电，且颗粒产生少之溅镀靶。
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| 申请公布号 |
TW201612347 |
申请公布日期 |
2016.04.01 |
| 申请号 |
TW104132367 |
申请日期 |
2015.09.30 |
| 申请人 |
ＪＸ日鑛日石金属股份有限公司 |
发明人 |
浅野孝幸 |
| 分类号 |
C23C14/34(2006.01);C23C14/14(2006.01) |
主分类号 |
C23C14/34(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
阎启泰;林景郁 |
| 主权项 |
一种Ti-Al合金溅镀靶，系含有39.6~80.0 at%之Al，剩余部份由Ti及不可避免之杂质构成之烧结体靶，其特征在于：该靶组织中，Ti3Al结晶相之面积比例为40%以下。
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| 地址 |
日本 |
