发明名称 可挠性电路基板以及电子设备
摘要 能防止布线电路的断线或开裂、具有优异的耐弯折性的可挠性电路基板及电子设备。可挠性电路基板包括:聚醯亚胺绝缘层;电路布线层,设于聚醯亚胺绝缘层的至少其中一面;以及覆盖层,层叠于电路布线层上;且聚醯亚胺绝缘层的厚度在10 μm~14 μm、或在23 μm~27 μm;构成电路布线层的铜布线的厚度在10 μm~14 μm,且铜布线的容积比率为85%以上;当聚醯亚胺绝缘层的厚度在10 μm~14 μm时,将覆盖层设为内侧进行弯折时的等效抗弯刚度在0.03 N·m2 ~0.04 N·m2 ,当聚醯亚胺绝缘层的厚度在23 μm~27 μm时,将覆盖层设为内侧进行弯折时的等效抗弯刚度在0.07 N·m2 ~0.10 N·m2 。
申请公布号 TW201613427 申请公布日期 2016.04.01
申请号 TW104132073 申请日期 2015.09.30
申请人 新日铁住金化学股份有限公司 发明人 松井弘贵;大野真;重松桜子
分类号 H05K1/02(2006.01);H05K3/28(2006.01);H05K1/03(2006.01);H05K7/02(2006.01) 主分类号 H05K1/02(2006.01)
代理机构 代理人 叶璟宗;卓俊杰
主权项 一种可挠性电路基板,包括: 聚醯亚胺绝缘层(A); 电路布线层(B),设于所述聚醯亚胺绝缘层(A)的至少其中一面;以及 覆盖层(C),层叠于所述电路布线层(B)上; 所述可挠性电路基板的特征在于具有以下的a~c的构成: a)所述聚醯亚胺绝缘层(A)的厚度在10 μm~14 μm的范围内、或者在23 μm~27 μm的范围内; b)构成所述电路布线层(B)的铜布线的厚度在10 μm~14 μm的范围内,且所述铜布线的容积比率为85%以上;以及 c)当所述聚醯亚胺绝缘层(A)的厚度在10 μm~14 μm的范围内时,将所述覆盖层(C)设为内侧而进行弯折时的等效抗弯刚度在0.03 N·m2 ~0.04 N·m2 的范围内, 当所述聚醯亚胺绝缘层(A)的厚度在23 μm~27 μm的范围内时,将所述覆盖层(C)设为内侧而进行弯折时的等效抗弯刚度在0.07 N·m2 ~0.10 N·m2 的范围内。
地址 日本