发明名称 |
基板洗净方法及基板洗净装置 |
摘要 |
气体团簇,一边抑制微粒再附着于被处
理基板,一边以高去除率来去除附着于被处理基板的微粒。
将被处理基板配置于处理容器内,对其
中进行排气而保持为真空,且朝向处理容器内的被处理基板照射包含有带电气体团簇之气体团簇,而在到达被处理基板之前,使带电气体团簇加速,并使包含有被加速之带电气体团簇的气体团簇冲撞被处理基板,从而去除被处理基板上之微粒,此时,对带电的被处理基板及微粒进行除电,使从被处理基板去除而被除电之微粒与排气流一起从处理容器排出。
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申请公布号 |
TW201611915 |
申请公布日期 |
2016.04.01 |
申请号 |
TW104120001 |
申请日期 |
2015.06.22 |
申请人 |
东京威力科创股份有限公司 |
发明人 |
土桥和也 |
分类号 |
B08B5/00(2006.01);B08B6/00(2006.01) |
主分类号 |
B08B5/00(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
林志刚 |
主权项 |
一种基板洗净方法,其系使用气体团簇来洗净基板,该基板洗净方法,其特征系,包含有:将被处理基板配置于处理容器内,对其中进行排气而保持为真空的步骤:朝向前述处理容器内的被处理基板照射包含有带电气体团簇之气体团簇的步骤:在到达被处理基板前,使前述带电气体团簇加速的步骤:使包含有被加速之带电气体团簇的气体团簇冲撞被处理基板,从而去除被处理基板上之微粒的步骤:在去除前述被处理基板上之微粒时,对带电的被处理基板及微粒进行除电的步骤:及使从被处理基板去除而被除电之微粒与排气流一起从前述处理容器排出的步骤。
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地址 |
日本 |