レーザーパルスマルチプライヤを用いた半導体検査及び計測システム

摘要

パルスマルチプライヤはビームスプリッター及び１つ以上のミラーを含む。ビームスプリッターは連続する入力レーザーパルスを受け取り、かつ各パルスのエネルギーの一部をリングキャビティに向ける。リングキャビティの周りを循環した後、パルスエネルギーの一部はビームスプリッターを通過してリングキャビティから射出し、エネルギーの一部は再循環する。リングキャビティの光路長を選択することにより、出力連続レーザーパルスの反復率は入力反復率の倍数にすることができる。出力パルスの相対エネルギーはビームスプリッターの透過率及び反射率を選択することにより制御できる。このパルスマルチプライヤはパルス当たりのピーク出力を安価に低減でき、同時に最小の総出力損失で秒当たりのパルス数を増加させる。