| 摘要 |
本発明の一実施形態によると，基板処理装置は，基板に対する処理が行われる処理室と，前記処理室と連結され，前記基板が出入りする通路を有する予備室と，前記予備室の内部をホルダ領域及び移送領域に区画する遮断板と，一つ以上の前記基板が積載され，前記ホルダ領域の内部に位置する積載位置及び前記処理室内部の処理位置に転換可能な基板ホルダと，前記基板ホルダを前記積載位置及び前記処理位置に移送し，前記基板ホルダに連結された移送アーム及び前記移送領域の内部に設置されて前記移送アームを駆動する駆動部を具備する基板移送ユニットと，前記予備室に不活性ガスを供給するガス供給ポートと，前記移送領領域に連結されて前記ガス供給ポートの上部に設置され，前記予備室の内部を排気する下部排気ポートと，を含み，前記下部排気口は前記予備室の上部面より下部面に近接して配置される。【選択図】図１ |
