| 摘要 |
L’invention se rapporte à une préparation pour bain galvanique comportant des composés organométalliques, un mouillant, un complexant, du cyanure libre caractérisée en ce qu’elle comporte du cuivre sous forme de cyanure double de cuivre et potassium, et de l’indium sous forme complexé permettant après ajout d’une solution d’aurocyanure alcalin de déposer galvaniquement un alliage d’or. |
