发明名称 |
ステレオリソグラフィ装置用の照射システム |
摘要 |
The invention concerns an illumination system (30) for use in a stereolithography apparatus (1), comprising a planar support supporting a twodimensional array (32) of individually controllable wide-angle light-emitting diodes (LEDs) (34) comprising light emitting surfaces; and a multilens projector array (40, 42) arranged relative to the array, and adapted to project the light-emitting surfaces of the LEDs onto a work area (16). The multilens projector array is arranged to project light from the LED array having a light emitting edge area focus error which is smaller than or equal to a light emitting central area focus error. |
申请公布号 |
JP5894439(B2) |
申请公布日期 |
2016.03.30 |
申请号 |
JP20110552897 |
申请日期 |
2010.03.08 |
申请人 |
ネーデルランデ オルガニサチエ ヴォール トエゲパスト−ナツールウェテンスハペリエク オンデルゾエク ティーエヌオーNEDERLANDSE ORGANISATIE VOOR TOEGEPAST−NATUURWETENSCHAPPELIJK ONDERZOEK TNO;ディーエスエム アイピー アセッツ ビー.ブイ. |
发明人 |
ヤマル,ヤコブス フベルトゥス セオドール;レイフェルス,アンドリエス;クルイジンガ、ボルゲルト;コオイストラ,ヤンツケ ディー;バエス,マルク ヘルマン エルセ |
分类号 |
G03F7/20;B29C67/00;H01L33/00 |
主分类号 |
G03F7/20 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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