一种柔性显示基板及其制备方法

摘要

本发明提供了一种基板及其制备方法，包括柔性基板、石墨烯层(1)、绝缘层(2)和栅电极(3)，所述石墨烯层(1)与所述栅电极(3)由绝缘层(2)相隔，所述栅电极(3)设于柔性基板上，所述石墨烯层(1)包括本征石墨烯(11)材质的源、漏电极及位于源、漏电极之间的氢化石墨烯(12)材质的半导体层。本发明所述柔性显示基板采用在金属薄膜上形成，然后粘附到柔性基板上，这样形成的柔性显示基板具有更高的平整度和质量，能很好的提高器件的性能和良品率，且其在多次弯折之后不易导致像素不良的发生。

主权项

一种柔性显示基板的制备方法，其特征在于，所述柔性显示基板包括柔性基板、石墨烯层(1)、绝缘层(2)和栅电极(3)，所述石墨烯层(1)与所述栅电极(3)由绝缘层(2)相隔，所述栅电极(3)设于柔性基板上，所述石墨烯层(1)包括本征石墨烯(11)材质的源、漏电极及位于源、漏电极之间的氢化石墨烯(12)材质的半导体层；制备方法包括如下步骤：1)先在金属薄膜表面形成一石墨烯层(1)；2)然后将所述石墨烯层(1)的沟道区处理成氢化石墨烯(12)，将本征石墨烯部分(11)制成源、漏电极及像素电极；氢化石墨烯(12)制成半导体层；3)在所述石墨烯层(1)上形成一绝缘层(2)，所述绝缘层覆盖整个石墨烯层表面；4)在所述绝缘层(2)上形成栅电极(3)；5)最后将步骤4)所得的基板粘附到柔性基板上，并剥离金属薄膜；步骤2)中先将石墨烯层(1)表面涂覆光刻胶，曝光、显影之后暴露出对应半导体层的石墨烯层，然后在等离子条件下通过氢等离子处理，使暴露的石墨烯层由本征石墨烯转变为氢化石墨烯。