发明名称 |
一种波前调制暗场自适应光学视网膜成像仪 |
摘要 |
本发明公开了一种波前调制暗场自适应光学视网膜成像仪,属于视网膜成像技术领域。其特征是:在成像光路中的瞳面共轭位置处加入空间光调制器,并在其后光路中的视网膜特定层的共轭位置(焦面)处加入匹配滤波器(滤波光阑)。其工作原理是:通过空间光调制器调制瞳面波前改变焦面处的衍射光场分布,并在焦面处加入匹配的滤波器滤除来自视网膜特定层的衍射光,实现对视网膜该层的暗场成像,这提高了其相邻层结构的成像对比度。 |
申请公布号 |
CN104352214B |
申请公布日期 |
2016.03.30 |
申请号 |
CN201410642859.2 |
申请日期 |
2014.11.13 |
申请人 |
中国科学院光电技术研究所 |
发明人 |
张雨东;赵军磊;戴云;杨金生;肖飞;康健;魏淩;赵豪欣;范真涛 |
分类号 |
A61B3/12(2006.01)I;A61B3/14(2006.01)I |
主分类号 |
A61B3/12(2006.01)I |
代理机构 |
北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 |
代理人 |
杨学明;李新华 |
主权项 |
一种波前调制暗场自适应光学视网膜成像仪,其特征在于:该成像仪包含波前调制子系统和匹配滤波子系统:其中波前调制子系统包括波前调制器和控制装置,用于调制瞳面波前;匹配滤波子系统包括匹配滤波器,该匹配滤波器采用匹配滤波光阑,用于焦面滤波;所述的波前调制器在该成像仪中瞳面的光学共轭位置处放置;所述的匹配滤波光阑在该成像仪中波前调制器之后的焦面位置处,其作用为焦面匹配滤波和滤除视网膜特定层的衍射光,实现对视网膜特定层的暗场成像。 |
地址 |
610209 四川省成都市双流350信箱 |