发明名称 一种波前调制暗场自适应光学视网膜成像仪
摘要 本发明公开了一种波前调制暗场自适应光学视网膜成像仪,属于视网膜成像技术领域。其特征是:在成像光路中的瞳面共轭位置处加入空间光调制器,并在其后光路中的视网膜特定层的共轭位置(焦面)处加入匹配滤波器(滤波光阑)。其工作原理是:通过空间光调制器调制瞳面波前改变焦面处的衍射光场分布,并在焦面处加入匹配的滤波器滤除来自视网膜特定层的衍射光,实现对视网膜该层的暗场成像,这提高了其相邻层结构的成像对比度。
申请公布号 CN104352214B 申请公布日期 2016.03.30
申请号 CN201410642859.2 申请日期 2014.11.13
申请人 中国科学院光电技术研究所 发明人 张雨东;赵军磊;戴云;杨金生;肖飞;康健;魏淩;赵豪欣;范真涛
分类号 A61B3/12(2006.01)I;A61B3/14(2006.01)I 主分类号 A61B3/12(2006.01)I
代理机构 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 代理人 杨学明;李新华
主权项 一种波前调制暗场自适应光学视网膜成像仪,其特征在于:该成像仪包含波前调制子系统和匹配滤波子系统:其中波前调制子系统包括波前调制器和控制装置,用于调制瞳面波前;匹配滤波子系统包括匹配滤波器,该匹配滤波器采用匹配滤波光阑,用于焦面滤波;所述的波前调制器在该成像仪中瞳面的光学共轭位置处放置;所述的匹配滤波光阑在该成像仪中波前调制器之后的焦面位置处,其作用为焦面匹配滤波和滤除视网膜特定层的衍射光,实现对视网膜特定层的暗场成像。
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