| 发明名称 | 一种在线处理烃类裂解炉管内表面的方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种在线处理烃类裂解炉管内表面的方法，包括：在还原性气氛气体保护下使裂解炉管升温到600-1200℃，然后通入氧化性气氛气体对裂解炉管内表面进行低氧分压处理，在裂解炉管内表面形成抗结焦、抗渗碳保护膜；还原性气氛气体包括氢气、惰性气体、甲烷中的一种或多种；氧化性气氛气体是由烃类、氢气和水蒸汽组成或者由烃类和水蒸汽组成；氧化性气氛气体中的氧分压为10<sup>-34</sup>～10<sup>-12</sup>atm；氧化性气氛处理温度为600℃～1200℃；处理的时间为5～5000小时。本发明可以使裂解装置上的裂解炉管内表面生成牢固的抗结焦抗渗碳锰铬尖晶石薄膜，减少裂解过程中的结焦，延长裂解炉运转周期。 | ||
| 申请公布号 | CN105441112A | 申请公布日期 | 2016.03.30 |
| 申请号 | CN201410240123.2 | 申请日期 | 2014.05.30 |
| 申请人 | 中国石油化工股份有限公司;中国石油化工股份有限公司北京化工研究院 | 发明人 | 王国清;郏景省;王红霞;王申祥;杜志国;张永刚 |
| 分类号 | C10G9/20(2006.01)I;C10G9/16(2006.01)I | 主分类号 | C10G9/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京思创毕升专利事务所 11218 | 代理人 | 周媛 |
| 主权项 | 一种在线处理烃类裂解炉管内表面的方法，其特征在于所述方法包括：在还原性气氛气体保护下使裂解炉管升温到600‑1200℃，然后通入氧化性气氛气体对裂解炉管内表面进行低氧分压处理，在裂解炉管内表面形成抗结焦、抗渗碳保护膜；所述还原性气氛气体包括氢气、惰性气体、甲烷中的一种或多种；所述的氧化性气氛气体是由烃类、氢气和水蒸汽组成或者由烃类和水蒸汽组成；所述的氧化性气氛气体中的氧分压为10<sup>‑34</sup>～10<sup>‑12</sup>atm；所述的氧化性气氛处理温度为600℃～1200℃；处理的时间为5～5000小时。 | ||
| 地址 | 100728 北京市朝阳区朝阳门北大街22号 | ||