发明名称 |
一种大开关比场效应晶体管的制备方法 |
摘要 |
本发明公开了一种大开关比场效应晶体管的制备方法,其特征在于,按下述步骤进行:①采用机械剥离法制备石墨烯薄片和二硫化钨薄片,选取带有氧化层的单晶硅片作为衬底,将石墨烯薄片、二硫化钨薄片、石墨烯薄片依次转移到衬底上,形成石墨烯异质结;②在石墨烯异质结上均匀旋涂光刻胶,再将掩膜版上图形通过曝光转移到光刻胶上,并采用电子束蒸镀沉积Ti/Au金属得到Ti/Au电极,制得基于石墨烯异质结的隧穿场效应晶体管。本发明结合了石墨烯的高载流子迁移率和过渡金属硫化物的带隙,以石墨烯和二硫化钨组成的异质结构作为沟道材料,获得高响应速度和大开关比的场效应晶体管。 |
申请公布号 |
CN105448714A |
申请公布日期 |
2016.03.30 |
申请号 |
CN201610012849.X |
申请日期 |
2016.01.08 |
申请人 |
温州大学 |
发明人 |
郑蓓蓉;薛伟;王权;白冰;张淼;周晨 |
分类号 |
H01L21/335(2006.01)I;H01L29/76(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/335(2006.01)I |
代理机构 |
杭州新源专利事务所(普通合伙) 33234 |
代理人 |
余冬 |
主权项 |
一种大开关比场效应晶体管的制备方法,其特征在于,按下述步骤进行:①采用机械剥离法制备石墨烯薄片和二硫化钨薄片,选取带有氧化层的单晶硅片作为衬底,将石墨烯薄片、二硫化钨薄片、石墨烯薄片依次转移到衬底上,形成石墨烯异质结;②在石墨烯异质结上均匀旋涂光刻胶,再将掩膜版上图形通过曝光转移到光刻胶上,并采用电子束蒸镀沉积Ti/Au金属得到Ti/Au电极,制得基于石墨烯异质结的隧穿场效应晶体管。 |
地址 |
325035 浙江省温州市瓯海经济开发区东方南路38号温州市国家大学科技园孵化器 |