发明名称 一种薄膜沉积设备
摘要 本发明提供一种薄膜沉积设备,其包括传输腔室,以及围绕在传输腔室周围的多套功能腔室,且各套功能腔室均与传输腔室对接;并且,多套功能腔室中包括工艺腔室、去气腔室和多功能腔室,该多功能腔室既用于将被加工工件在传输腔室和大气环境之间传入/传出,又用于对被加工工件进行退火工艺;或者,多套功能腔室中包括工艺腔室、去气腔室、气锁腔室以及用于对被加工工件进行退火工艺的退火腔室。本发明提供的薄膜沉积设备,其无需在设备之外另设单设退火炉,就可以完成退火工艺,从而不仅可以缩短工艺时间,而且还可以降低热预算,进而可以降低设备的生产成本。
申请公布号 CN105441876A 申请公布日期 2016.03.30
申请号 CN201410443115.8 申请日期 2014.09.02
申请人 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 发明人 白志民;张伟;杨玉杰;李强;邱国庆
分类号 C23C14/22(2006.01)I;C23C14/58(2006.01)I 主分类号 C23C14/22(2006.01)I
代理机构 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人 彭瑞欣;张天舒
主权项 一种薄膜沉积设备,包括传输腔室,以及围绕在所述传输腔室周围的多套功能腔室,且各套功能腔室均与所述传输腔室对接;并且,所述多套功能腔室中包括工艺腔室和去气腔室,其特征在于,所述多套功能腔室中还包括多功能腔室,所述多功能腔室既用于将被加工工件在所述传输腔室和大气环境之间传入/传出,又用于对被加工工件进行退火工艺。
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