发明名称 |
散热用的铜碳箔结构 |
摘要 |
本实用新型是有关于一种散热用的铜碳箔结构,该散热用的铜碳箔结构设有一铜箔,该铜箔表面形成第一凹凸粗糙面,再于铜箔第一凹凸粗糙面附着一金属介质层,该金属介质层表面随第一凹凸粗糙面而形成第二凹凸粗糙面,于金属介质层的第二凹凸粗糙面嵌入结合一碳膜。由此,利用铜箔的凹凸表面结构及金属介质层,即可使碳原子牢固地结合于铜箔上,且由碳原子键结形成的碳膜,是具有良好热传导特性,故使用实施上能达到大幅提高电子产品的散热效果,也能延长使用的寿命。 |
申请公布号 |
CN205124230U |
申请公布日期 |
2016.03.30 |
申请号 |
CN201520891162.9 |
申请日期 |
2015.11.10 |
申请人 |
林钲絖 |
发明人 |
林钲絖 |
分类号 |
H05K7/20(2006.01)I;B32B15/04(2006.01)I;B32B15/20(2006.01)I |
主分类号 |
H05K7/20(2006.01)I |
代理机构 |
北京三友知识产权代理有限公司 11127 |
代理人 |
姚亮 |
主权项 |
一种散热用的铜碳箔结构,其特征在于,该散热用的铜碳箔结构设有一铜箔,该铜箔表面形成第一凹凸粗糙面,再于铜箔第一凹凸粗糙面附着一金属介质层,该金属介质层表面随第一凹凸粗糙面而形成第二凹凸粗糙面,于金属介质层的第二凹凸粗糙面嵌入结合一碳膜,该碳膜为以碳原子连续堆积键结形成的碳膜。 |
地址 |
中国台湾新北市汐止区福德一路300巷2弄16号 |