发明名称 |
一种集光系统防污染保护装置 |
摘要 |
本发明公开了一种集光系统防污染保护装置,用于一种集光系统中,所述集光系统包括:一激光源,一真空腔,一集光镜,所述集光系统防污染保护装置包括:一供气管路,用于传输压力气体;至少一通气孔,位于所述供气管路上,用于喷射所述压力气体;至少一气源,与所述供气管路连接,用于给所述供气管路提供压力气体;其中,所述通气孔与所述通过气路连通,实现通过所述压力气体将所述真空腔中的污染物吹离所述集光镜。本发明能够在激光源和集光镜之间通入背离集光镜内表面的气流,进而实现通过气流将光源中的污染物吹离集光镜,从而防止集光镜被污染物污染,达到延长集光镜使用寿面的目的。 |
申请公布号 |
CN103108481B |
申请公布日期 |
2016.03.30 |
申请号 |
CN201210505346.8 |
申请日期 |
2012.11.30 |
申请人 |
中国科学院微电子研究所 |
发明人 |
宗明成;魏志国;徐天伟;孙裕文;黄有为 |
分类号 |
H05G2/00(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I |
主分类号 |
H05G2/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京华沛德权律师事务所 11302 |
代理人 |
刘丽君 |
主权项 |
一种集光系统防污染保护装置,用于一种集光系统中,其特征在于,所述集光系统包括:一激光源,所述激光源用于发生激光束;一真空腔,所述真空腔用于保持真空环境,提供光的存在环境;一集光镜,所述集光镜位于所述真空腔内,用于聚集光;其中,所述集光系统防污染保护装置包括:一供气管路,位于所述真空腔中,且所述供气管路用于传输压力气体;至少一通气孔,位于所述真空腔中,且所述至少一通气孔位于所述供气管路上,用于喷射所述压力气体;至少一气源,所述气源与所述供气管路连接,用于给所述供气管路提供压力气体;其中,所述压力气体通过所述通气孔将所述真空腔中的污染物吹离所述集光镜;所述供气管路通过所述通气孔喷射的气流为第一方向,所述集光镜的轴线方向为第二方向,其中,所述第一方向平行于所述第二方向,或者所述第一方向聚焦于所述第二方向上的一点;所述集光镜上设有第一圈喷气嘴、第二圈喷气嘴,其中,所述第一圈喷气嘴包括第一喷气嘴和第二喷气嘴,所述第一喷气嘴喷出的压力气体的方向是背离集光镜内表面的任何方向,所述第一喷气嘴与第二喷气嘴之间的距离为第一距离;所述第二圈喷气嘴包括第三喷气嘴和第四喷气嘴,所述第三喷气嘴与所述第四喷气嘴之间的距离为第二距离;其中,第一距离等于或者不等于第二距离。 |
地址 |
100029 北京市朝阳区北土城西路3号中科院微电子所 |