发明名称 |
清洁方法和清洁装置 |
摘要 |
公开了一种清洁装置和清洁方法。清洁装置(500)并行清洁包括多个槽(202)的槽阵列(200),其包括:清洁托盘(502),被配置有多个孔径(5022);以及清洁单元(504),被放置于所述多个孔径(5022)中的至少一个,所述清洁单元(504)具有基板(5042)和固定到基板(5042)的清洁介质(5044)。清洁介质(5044)由有粘性的弹性体材料构成。根据本技术,可高效地并行清洁多个槽上的污染物,尤其是对具有橡胶插脚的槽。 |
申请公布号 |
CN105448773A |
申请公布日期 |
2016.03.30 |
申请号 |
CN201410428997.0 |
申请日期 |
2014.08.27 |
申请人 |
晟碟半导体(上海)有限公司 |
发明人 |
张志杰;杨波;田富槐;顾剑斌;吴明霞;K.L.博克 |
分类号 |
H01L21/67(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/67(2006.01)I |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 11105 |
代理人 |
万里晴 |
主权项 |
一种用于并行清洁包括多个槽(202)的槽阵列(200)的清洁装置(500),包括:清洁托盘(502),被配置有多个孔径(5022);以及清洁单元(504),被放置于所述多个孔径(5022)中的至少一个,所述清洁单元(504)具有基板(5042)和固定到基板(5042)的清洁介质(5044),其中,所述清洁介质(5044)由有粘性的弹性体材料构成。 |
地址 |
200241 中国上海市闵行区江川东路388号 |