发明名称 一种带有电磁场辅助作用的金属雾化双层限制性喷嘴
摘要 本发明公开了一种带有电磁场辅助作用的金属雾化双层限制性喷嘴,包括第一层自由降落式喷嘴和第二层laval型喷嘴,第一层自由降落式喷嘴位于第二层laval型喷嘴上方,第一层自由降落式喷嘴带有漏斗结构金属液入口,第二层laval型喷嘴带有线圈,其中第一层自由降落式喷嘴出口为自由降落式喷嘴出口,第二层laval型喷嘴出口为laval型喷嘴出口。本发明的优点在于双层喷嘴结构实现多次气雾化过程,雾化效率高;阶梯状双层导液管与辅助风孔的设计可以防止喷嘴堵塞;缠绕通电线圈产生电磁场的设计,产生紊流,使粉末在喷嘴管内部不易融合,并且产生离心力作用,使粉末颗粒更加分散,降低融合几率,有利于得到粒度小、球形度高的粉末。
申请公布号 CN105436509A 申请公布日期 2016.03.30
申请号 CN201410520565.2 申请日期 2014.09.30
申请人 南京理工大学 发明人 孔见;张鑫;林浩;周稷;谢文龙
分类号 B22F9/08(2006.01)I 主分类号 B22F9/08(2006.01)I
代理机构 南京理工大学专利中心 32203 代理人 朱显国
主权项 一种带有电磁场辅助作用的金属雾化双层限制性喷嘴,其特征在于:包括第一层自由降落式喷嘴和第二层laval型喷嘴,第一层自由降落式喷嘴位于第二层laval型喷嘴上方,第一层自由降落式喷嘴带有漏斗结构的金属液入口,第二层laval型喷嘴带有线圈,其中第一层自由降落式喷嘴出口为自由降落式喷嘴出口,第二层laval型喷嘴出口为laval型喷嘴出口;第一层自由降落式喷嘴包括上层导液管(1)和第一层雾化器集流腔(2);上层导液管(1)的入口形状为漏斗形,位于漏斗结构下方的上层导液管(1)颈部设有平台,第一层雾化器集流腔(2)为环形,第一层雾化器集流腔(2)带有第一空腔(5),在第一层雾化器集流腔(2)的内壁对称设有一对上层喷嘴辅助风孔(7),上述上层喷嘴辅助风孔(7)自第一空腔(5)向漏斗方向倾斜,第一层雾化器集流腔(2)的第一空腔(5)靠近内环的侧壁为斜面,第一层雾化器集流腔(2)的内壁为倒三角形,第一层雾化器集流腔(2)外壁对称设有一对进气孔,使得空气进入第一空腔(5),内环侧壁底部设有上层喷嘴倾斜环缝(6),上层喷嘴倾斜环缝(6)角度与内环侧壁斜面角度一致,上层喷嘴倾斜环缝(6)为第一层雾化器集流腔(2)的空气出口;上层喷嘴辅助风孔(7)位于上层喷嘴倾斜环缝(6)上方;上层导液管(1)插入第一层雾化器集流腔(2)的中心内环,上层导液管(1)的平台卡在第一层雾化器集流腔(2)的内环顶部,防止上层导液管(1)滑落;上层导液管(1)的出口不高于上层喷嘴倾斜环缝(6),且不进入第二层laval型喷嘴。
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