发明名称 |
一种静电场加速的高能离子注入机的高压防护及射线屏蔽系统 |
摘要 |
本发明公开了一种静电场加速的高能离子注入机的高压防护及射线屏蔽系统,包括含铅的屏蔽机房,所述屏蔽机房包括依次布置的束流加速预备区、束流静电加速区和束流调整区,所述束流加速预备区内依次设有离子束流、束流离子分析器和束流漂移管道,所述束流静电加速区内设有高压的束流静电加速器,所述束流静电加速器与束流漂移管道连通,所述束流静电加速区、束流加速预备区和束流调整区外周铅板厚度依次减小,而非布置成等厚的结构,在达到射线屏蔽条件下,减轻屏蔽机房的重量,节省成本,当屏蔽机房的高度达到4米或更高时,降低安装风险;本发明的连锁门与为束流静电加速器的高压电源供电的前级供电系统联动,满足可靠的高压安全防护。 |
申请公布号 |
CN105448371A |
申请公布日期 |
2016.03.30 |
申请号 |
CN201510804022.8 |
申请日期 |
2015.11.20 |
申请人 |
中国电子科技集团公司第四十八研究所 |
发明人 |
袁卫华;彭立波;孙雪平;易文杰 |
分类号 |
G21F3/00(2006.01)I;G21F7/00(2006.01)I;H01J37/16(2006.01)I;H01J37/30(2006.01)I;H01J37/317(2006.01)I |
主分类号 |
G21F3/00(2006.01)I |
代理机构 |
湖南兆弘专利事务所 43008 |
代理人 |
周长清 |
主权项 |
一种静电场加速的高能离子注入机的高压防护及射线屏蔽系统,包括含铅的屏蔽机房(1),其特征在于:所述屏蔽机房(1)包括依次布置的束流加速预备区(2)、束流静电加速区(3)和束流调整区(4),所述束流加速预备区(2)内依次设有离子束流(21)、束流离子分析器(22)和束流漂移管道(23),所述束流静电加速区(3)内设有高压的束流静电加速器(31),所述束流静电加速器(31)与束流漂移管道(23)连通,所述束流静电加速区(3)、束流加速预备区(2)和束流调整区(4)外周铅板厚度依次减小。 |
地址 |
410111 湖南省长沙市天心区新开铺路1025号 |