清洁基板的设备和方法

摘要

本发明提供一种清洁基板的设备和方法。所述设备包括：基板支撑单元，其用于支撑基板；容器，其环绕所述基板支撑单元且收集从所述基板洒出的有机溶剂；流体供应单元，其设在所述容器的一侧并向所述基板上喷洒带气泡的液体有机溶剂。所述流体供应单元包括：喷嘴头，将所述有机溶剂喷喷到所述基板上；有机溶剂供应线，从有机溶剂贮槽向所述喷嘴头提供所述有机溶剂；气泡供应元件，设在所述有机溶剂供应线上并向所述液体有机溶剂提供气泡。

主权项

一种基板清洁设备，包括：基板支撑单元，其用于支撑基板；容器，其环绕所述基板支撑单元且从所述基板收集洒出的有机溶剂；流体供应单元，其设在所述容器的一侧并包括化学品供应单元、清洁溶液供应单元、有机溶剂供应单元和干燥气体供应单元；其中，所述有机溶剂供应单元用于先向所述基板喷洒带气泡的有机溶剂、然后再向所述基板喷洒无气泡的有机溶剂。