| 发明名称 | 一种衬底翘曲度的调整方法 | ||
| 摘要 | 本申请公开一种衬底翘曲度的调整方法。该方法包括：获得衬底的翘曲度，其中，所述衬底的第一表面上形成有第一薄膜；判断所述衬底的翘曲度的绝对值是否大于或等于翘曲度阈值；若是，则在所述衬底的第二表面上形成调整薄膜，使所述衬底的翘曲度小于所述翘曲度阈值，其中，所述调整薄膜的膨胀系数与所述第一薄膜的膨胀系数均小于所述衬底的膨胀系数，或者，所述调整薄膜的膨胀系数与所述第一薄膜的膨胀系数均大于所述衬底的膨胀系数；所述第一表面的法线方向与所述第二表面的法线方向相反。该方法能够在不影响原有衬底加工工艺的情况下，高效的对衬底的翘曲度进行可控调整，保证了产品的性能，并能够使得薄膜沉积之后的光刻工艺等顺利进行。 | ||
| 申请公布号 | CN105448762A | 申请公布日期 | 2016.03.30 |
| 申请号 | CN201410433072.5 | 申请日期 | 2014.08.28 |
| 申请人 | 中国科学院微电子研究所 | 发明人 | 徐强;杨涛;贺晓彬 |
| 分类号 | H01L21/66(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/66(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京维澳专利代理有限公司 11252 | 代理人 | 王立民;胡湘根 |
| 主权项 | 一种衬底翘曲度的调整方法，其特征在于，包括：获得衬底的翘曲度，其中，所述衬底的第一表面上形成有第一薄膜；判断所述衬底的翘曲度的绝对值是否大于或等于翘曲度阈值；若是，则在所述衬底的第二表面上形成调整薄膜，使所述衬底的翘曲度小于所述翘曲度阈值，其中，所述调整薄膜的膨胀系数与所述第一薄膜的膨胀系数均小于所述衬底的膨胀系数，或者，所述调整薄膜的膨胀系数与所述第一薄膜的膨胀系数均大于所述衬底的膨胀系数；所述第一表面的法线方向与所述第二表面的法线方向相反。 | ||
| 地址 | 100029 北京市朝阳区北土城西路3号 | ||