| 发明名称 | 薄膜形成方法以及薄膜形成装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种薄膜形成方法以及薄膜形成装置。沿基板(10)表面的应形成薄膜图案的预定区域(11)的边缘(12)形成脊状的阻挡结构(14)。形成阻挡结构(14)之后，使光固化性的液态的薄膜材料液滴化并着落于预定区域(11)内，然后对着落于预定区域(11)的薄膜材料照射临时固化用光以使其临时固化，从而形成膜要件(15A)。将光固化性的液态的薄膜材料涂布于膜要件(15A)之上而形成液态膜(16)。对液态膜(16)以及膜要件(15A)照射光强度比临时固化用光的光强度更强的正式固化用光，以使液态膜(16)固化，并且提高膜要件(16)的固化度。 | ||
| 申请公布号 | CN105451897A | 申请公布日期 | 2016.03.30 |
| 申请号 | CN201480036121.X | 申请日期 | 2014.06.20 |
| 申请人 | 住友重机械工业株式会社;名幸电子有限公司 | 发明人 | 冈本裕司;黑须满帆 |
| 分类号 | B05D3/06(2006.01)I;B05C5/00(2006.01)I;B05C9/06(2006.01)I;B05C9/10(2006.01)I;B05C9/12(2006.01)I;B05D1/26(2006.01)I;B05D7/24(2006.01)I;H05K3/28(2006.01)I | 主分类号 | B05D3/06(2006.01)I |
| 代理机构 | 广州三环专利代理有限公司 44202 | 代理人 | 温旭;郝传鑫 |
| 主权项 | 一种薄膜形成方法，其特征在于，具有：沿基板表面的应形成薄膜图案的预定区域的边缘形成脊状的阻挡结构的工序；形成所述阻挡结构之后，使光固化性的液态的薄膜材料液滴化并着落于所述预定区域内，然后对着落于所述预定区域的薄膜材料照射临时固化用光以使其临时固化，从而形成膜要件的工序；在所述膜要件之上涂布光固化性的液态的薄膜材料而形成液态膜的工序；及对所述液态膜以及所述膜要件照射光强度比所述临时固化用光的光强度更强的正式固化用光，以使所述液态膜固化，并且提高所述膜要件的固化度的工序。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||