| 发明名称 | 一种光栅制造方法及光栅 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种光栅制造方法及光栅，涉及光栅制造领域。该方法，应用于光栅的制造，包括下列步骤：在光片上进行第一层光刻与刻蚀，形成第一层台阶；在经过第一层光刻与刻蚀后，在所述第一层台阶的凹槽内进行第二层光刻与刻蚀，形成第二层台阶；在经过第二层光刻与刻蚀后，在所述第二层台阶的凹槽内进行第三层光刻与刻蚀，形成第三层台阶。本发明的光栅制造方法通过直接在光片上进行光刻与蚀刻，解决了现有技术耗时长，且二氧化硅除反射外还存在折射，影响光栅亮度的问题。 | ||
| 申请公布号 | CN105445832A | 申请公布日期 | 2016.03.30 |
| 申请号 | CN201410247851.6 | 申请日期 | 2014.06.05 |
| 申请人 | 北大方正集团有限公司;深圳方正微电子有限公司 | 发明人 | 崔金洪 |
| 分类号 | G02B5/18(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I | 主分类号 | G02B5/18(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人 | 许静;黄灿 |
| 主权项 | 一种光栅制造方法，应用于光栅的制造，其特征在于，包括下列步骤：在光片上进行第一层光刻与刻蚀，形成第一层台阶；在经过第一层光刻与刻蚀后，在所述第一层台阶的凹槽内进行第二层光刻与刻蚀，形成第二层台阶；在经过第二层光刻与刻蚀后，在所述第二层台阶的凹槽内进行第三层光刻与刻蚀，形成第三层台阶。 | ||
| 地址 | 100871 北京市海淀区成府路298号中关村方正大厦808室 | ||