半色调掩模、半色调掩模坯料及半色调掩模的制造方法

摘要

本发明提供了一种在使用浓硫酸的洗净处理中可对刻蚀阻挡层的侧蚀进行抑制的半色调掩模。所述半色调掩模具有透光部(TA)、半透光部(HA)和遮光部(PA)。遮光部(PA)包括基材(S)、半透光层11、设置在半透光层上且由Cr或Cr的化合物形成的遮光层(13)以及设置在半透光层(11)和遮光层(13)之间的刻蚀阻挡层(12)。刻蚀阻挡层(12)含有第一元素、第二元素。所述第一元素由选自Mo和W构成的组中的至少一种元素构成，且具有6.4mol％以上且38.2mol％以下的组成比。所述第二元素由选自Zr、Nb、Hf和Ta构成的组中的至少一种元素构成。

主权项

一种半色调掩模，包括：透光部，包括透光性的基材；半透光部，包括所述基材和设置在所述基材上且由铬或铬的化合物形成的半透光层；遮光部，包括所述基材、所述半透光层、设置在所述半透光层上且由铬或铬的化合物形成的遮光层以及设置在所述半透光层和所述遮光层之间的刻蚀阻挡层，所述刻蚀阻挡层含有第一元素、第二元素和第三元素，所述第一元素由选自钼和钨构成的组中的至少一种元素构成，且具有11.1mol％以上且38.2mol％以下的组成比，所述第二元素由选自锆、铌、铪和钽构成的组中的至少一种元素构成，所述第三元素由镍构成，所述第一元素的组成比和所述第二元素的组成比之和为50mol％以下，所述第三元素的组成比为50mol％以上且85.3mol％以下。