套刻误差测量装置及方法

摘要

本发明揭示了一种套刻误差测量装置及方法。所述套刻误差测量装置包括光源系统、照明系统、主分光镜、物镜及探测器；所述光源系统提供宽波段的测量光束，所述测量光束经过照明系统形成一对称分布的照明光束，所述照明光束入射到主分光镜上发生反射，反射光通过物镜后汇聚到套刻测量标记上发生色散效应，所述物镜收集从套刻测量标记上衍射的各种波长的光，并透过主分光镜被一探测器接收，探测套刻测量标记的衍射光谱。本发明的套刻误差测量装置及方法，可显著提高工艺适应性和光源能量利用率。

主权项

一种套刻误差测量装置，用于对放置于工件台上的套刻测量标记进行套刻误差的分析，所述套刻误差测量装置包括光源系统、照明系统、主分光镜、物镜及探测器；所述光源系统提供宽波段的测量光束，所述测量光束经过照明系统形成一对称分布的照明光束，所述照明光束入射到主分光镜上发生反射，反射光通过物镜后汇聚到套刻测量标记上发生色散效应，所述物镜收集从套刻测量标记上衍射的各种波长的光，并透过主分光镜被一探测器接收，探测套刻测量标记的衍射光谱。